追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務體系
誠信經(jīng)營質量保障價格合理服務完善當前位置:首頁 > 產(chǎn)品展示 > > 沉積系統(tǒng) > 化學氣相沉積
簡要描述:化學氣相沉積為一種薄膜沉積方法,其中將基材暴露于一種或多種揮發(fā)性氣體中,在基板表面上反應或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環(huán)境中制造高質量與高性能的固體材料。因此,該制程通常在半導體工業(yè)中用于制造薄膜。
產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
---|
CVD 化學氣相沉積(CVD)為一種薄膜沉積方法,其中將基材暴露於一種或多種揮發(fā)性氣體中,在基板表面上反應或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用於在真空環(huán)境中製造高質量與高性能的固體材料。因此,該製程通常在半導體工業(yè)中用於製造薄膜。
化學氣相沉積
Figure 1:化學氣相沉積的步驟
在典型的CVD中,將前驅物在室溫下進料到反應腔體中。當它們與加熱的基板接觸時,它們發(fā)生反應或分解以形成薄膜,並沉積在基材上。在此過程中,還會產(chǎn)生副產(chǎn)物,這些副產(chǎn)物可通過流經(jīng)反應腔體的氣流除去。其製程溫度非常重要,會影響其化學反應。
Figure 2: 示意圖-化學氣相沉積的步驟
產(chǎn)品咨詢